Паста Koch абразивная полировальная H9.02 Heavy Cut H9.02 (темп.режим!) (250 мл)
Артикул: 458250
1767 ₽ в наличии 4
Бесплатная доставка от 2000 ₽
HEAVY CUT H9.02 - Абразивная полировальная паста для твёрдых лаков (250 мл) 458250
Крупнозернистая абразивная политура без содержания силиконового масла
Степень шлифования: 9
Степень блеска: 6
Инновационная машинная политура предназначена для быстрого обновления лакокрасочных покрытий с сильными следами от атмосферного воздействия, для устранения глубоких царапин и для эффективного удаления красочных туманов и аншлифов до размера зернистости 1.200. За счёт супероднородного абразивного зерна политура Heavy Cut 9.02 обеспечивает чрезвычайно высокое качество шлифовки с отличной степенью блеска. Поддаётся длительной полировке без прилипания при незначительном образовании пыли. Идеально подходит для всех типов лакокрасочных покрытий (как мягких, так и устойчивых к возникновению царапин).
Преимущества
• Номинальная температура рабочего процесса до 50 градусов.
• Высокий уровень блеска и шлифования.
• Небольшой расход за счет остроабразивного зерна в составе.
• Не позволяет образовываться пыли на поверхности.
• Подходит как для твердых (HS), средне-мягких (MS), так и керамолаков.
• Не содержит силикона.
• Рабочие обороты 1000 – 1400 об/мин.
Плотность
1,1 (1000 мл – 1020 грамм).
Рекомендации по применению
Производить обработку перекрёстным способом с помощью ротационной полировальной машины и мехового полировального круга Lammfell-Pad (при аншлифе зернистостью 1200 - 2500) или Heavy Cut Pad (при аншлифе зернистостью 1500 - 3000). Обрабатывать абразивную политуру при средней частоте вращения и среднем нажиме. Превосходный вид поверхности достигается благодаря дополнительной полировке с помощью политуры для зеркального блеска с устранением эффекта голограммы Micro Cut M3.02 или Micro Cut & Finish P3.01.
Хранение
При температуре +15 до +25°С.
Не подвергать заморозке, так как пасты Koch-Chemie на водной основе.
Предупреждения!
Рабочая температура поверхности не должна превышать 60°С!
Гарантия 100% результата даётся только при использовании фирменных полировальных кругов от компании Koch-Chemie.
Крупнозернистая абразивная политура без содержания силиконового масла
Степень шлифования: 9
Степень блеска: 6
Инновационная машинная политура предназначена для быстрого обновления лакокрасочных покрытий с сильными следами от атмосферного воздействия, для устранения глубоких царапин и для эффективного удаления красочных туманов и аншлифов до размера зернистости 1.200. За счёт супероднородного абразивного зерна политура Heavy Cut 9.02 обеспечивает чрезвычайно высокое качество шлифовки с отличной степенью блеска. Поддаётся длительной полировке без прилипания при незначительном образовании пыли. Идеально подходит для всех типов лакокрасочных покрытий (как мягких, так и устойчивых к возникновению царапин).
Преимущества
• Номинальная температура рабочего процесса до 50 градусов.
• Высокий уровень блеска и шлифования.
• Небольшой расход за счет остроабразивного зерна в составе.
• Не позволяет образовываться пыли на поверхности.
• Подходит как для твердых (HS), средне-мягких (MS), так и керамолаков.
• Не содержит силикона.
• Рабочие обороты 1000 – 1400 об/мин.
Плотность
1,1 (1000 мл – 1020 грамм).
Рекомендации по применению
Производить обработку перекрёстным способом с помощью ротационной полировальной машины и мехового полировального круга Lammfell-Pad (при аншлифе зернистостью 1200 - 2500) или Heavy Cut Pad (при аншлифе зернистостью 1500 - 3000). Обрабатывать абразивную политуру при средней частоте вращения и среднем нажиме. Превосходный вид поверхности достигается благодаря дополнительной полировке с помощью политуры для зеркального блеска с устранением эффекта голограммы Micro Cut M3.02 или Micro Cut & Finish P3.01.
Хранение
При температуре +15 до +25°С.
Не подвергать заморозке, так как пасты Koch-Chemie на водной основе.
Предупреждения!
Рабочая температура поверхности не должна превышать 60°С!
Гарантия 100% результата даётся только при использовании фирменных полировальных кругов от компании Koch-Chemie.